Вернуться в список сотрудников
Employee:
Derevyashkin Sergey Vladimirovich
Positions:
Researcher,
Warning: Creating default object from empty value in /disk2/www/back/tmp/sourcerer_php_5235f3f3cc19aeec926b02e68806bf09 on line 32
Personal publicalions (DB NIOCh)
2021
Reviews, articles
- S.V. Derevyashkin, E.A. Soboleva, V.V. Shelkovnikov, N.A. Orlova, I.A. Malakhov, V.N. Berezhnaya, E.D. Savina, Y.P. Tsentalovich
Phototransformations of acrylamide derivatives of piperazine-substituted polyfluorinated chalcones
Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2021, V. 406, Art. Num. 112973 doi:10.1016/j.jphotochem.2020.112973, IF=2.668
2020
Reviews, articles
- С.В. Деревяшкин, Е.А. Соболева, В.В. Шелковников
Получение электропроводящих структур электрохимическим осаждением меди на подложках анодированного алюминия при использовании полифторхалконов в качестве фоторезистного слоя
Микроэлектроника. 2020. Т. 49. № 3. С. 186-197 DOI: 10.31857/S0544126920020027 (Obtaining Electrically Conductive Structures by Electrochemical Deposition of Copper onto Substrates of Anodized Aluminum Using Polyfluorochalcones as a Photoresist Layer/ S. V. Derevyashkin, E. A. Soboleva & V. V. Shelkovnikov// Russian Microelectronics, 2020, V. 49, N 3, Pp 173-183 doi:10.1134/S106373972002002X)
2019
Reviews, articles
- S.V. Derevyashkin, E.A. Soboleva, V.V. Shelkovnikov, V.P. Korolkov, A.I. Malyshev, E.V. Spesivtsev
Triacrylamide polyfluorinated chalcone derivative as high resistant light-sensitive material for technology of diffractive optical elements
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 2019, V. 11030, Num.art 110301D doi:10.1117/12.2521139 - С.В. Деревяшкин, Е.А. Соболева, В.В. Шелковников, А.И. Малышев, В.П. Корольков
Маскирующие свойства структур на основе триакриламидного производного полифторхалкона при жидкостном и реактивном ионном травлении
Микроэлектроника, 2019. №1, С. 16-30. (Masking Properties of Structures Based on a Triacrylamide Derivative of Polyfluorochalcone at Wet and Reactive Ion Etching/ S. V. Derevyashkin, E. A. Soboleva V. V. Shelkovnikov, A. I. Malyshev, V. P. Korolkov// Russian Microelectronics, 2019, V. 48, N 1, pp 13-27 doi:10.1134/S1063739719010037)
2018
Reviews, articles
- С.В. Деревяшкин, Е.А. Соболева, В.В. Шелковников, Е.В. Спесивцев
Голографическая запись в микронных пленках на основе полифторхалконов
Химия высоких энергий, 2018, Т. 52, №6. c. 507-514?\, DOI:10.1134/S0023119318060037 (Holographic Recording in Micron Films Based on Polyfluorochalcones/ S. V. Derevyashkin, E. A. Soboleva, V. V. Shelkovnikov, E. V. Spesivtsev// High Energy Chemistry, 2019, V. 53, N 1, pp 50-57 doi:10.1134/S0018143918060036), IF=0.737
Warning: Creating default object from empty value in /disk2/www/back/tmp/sourcerer_php_b3fd11068d53e330de7993bf72aadaac on line 30